인텔이 향후 자사 주력 프로세서 생산에 납 사용을 중단하겠다고 선언했다.

인텔은 22일 코어2 듀오, 코어2 쿼드, 제온 프로세서 등 올해 하반기부터 제조되는 자사 45나노미터 하이케이(Hi-k) 메탈 게이트 프로세서 전 제품을 시작으로 미래형 프로세서에 납 사용을 완전 중단한다고 밝혔다.

프로세서 제조 공정 중 납은 패키징과 범핑 등 다양한 목적에 사용되고 있으나 인텔은 하이케이 실리콘 기술을 이용해 납 사용을 중단하고 프로세서의 전력 효율성 및 성능을 강화했다.

인텔은 2008년부터는 65나노미터 칩셋 또한 100% 무연화한다는 방침이다.

이번 결정으로 환경 보존 효과뿐만 아니라 더욱 작고 세련된 디자인에 전력 효율성이 강화된 PC와 모바일 기기, 서버 등 제조가 가능해질 것으로 인텔은 기대했다.

인텔 기술 및 제조 그룹 부사장 겸 조립 테스트 기술 개발 담당 이사인 나세르 그레이엘리는 인텔은 제품의 무연화 및 전력 효율성 증진에서부터 대기 방출량 감소, 물과 원료 재활용에 이르기까지 환경 보존을 위해 적극적인 조치를 취하고 있다고 밝혔다.

(서울=연합뉴스) 조성흠 기자 josh@yna.co.kr
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