미국의 반도체 업체인 인텔이 오는 2010년 완공 예정인 중국 다롄(大連) 공장에 65㎚(나노미터) 또는 45㎚ 기술을 적용해 반도체를 생산할 계획이라고 관영 영자지 차이나데일리가 21일 보도했다.

샤더런(夏德仁) 다롄시장은 이날 인텔이 65㎚ 또는 45㎚ 생산기술을 다롄공장에 적용할 것이 확실시되며, 이를 위해 이 공장에 세계적 수준의 연구개발 시설을 갖출 계획이라고 밝혔다.

반도체는 회로의 폭이 가늘면 가늘수록 첨단 제품에 속한다.

이는 인텔이 올해 3월 25억달러(약2조3천억원)을 투자해 다롄에 아시아 최초의 공장을 건립하겠다는 계획을 발표하면서 이 공장에 적용할 기술 수준으로 언급한 90㎚ 기술보다 1∼2단계 상향된 것이다.

지난 2005년말 65㎚ 기술을 처음 선보였던 인텔은 작년 6월 아일랜드에 65㎚ 반도체 생산공장을 설립해 양산에 들어갔으며, 올해 하반기에는 이보다 1단계 향상된 45㎚기술을 적용한 반도체를 내놓을 계획이다.

(선양=연합뉴스) 조계창 특파원 phillife@yna.co.kr
blog.yna.co.kr/phillife
(끝)

<저작권자(c)연합뉴스. 무단전재-재배포금지.>